| Google překladač: |
|
|
Nejbližší akce
Aktuální články
- Xencelabs představuje Xencelabs Sift Display 16
- Navrhujeme datovou infrastrukturu s využitím BIM technologií a simulace sítí
- Santiniho kaple ve virtuální a rozšířené realitě
- Nejnovější aktualizace SprutCAM X a X Robot
- Workshop Do letních měsíců s novým SOLIDWORKS
- Robotické rameno řízené mikropočítačem
- První Wienerberger fórum roku 2024 bude 16. května
- 3D tiskárna microArch D1025 se dvěma rozlišeními
CAD na www.SystemOnLine.cz
3D tisk kovů je nová výzva a trend, ale především výrazná konkurenční výhoda
Novinka od Sony pro tvůrce 3D obsahu
3D tisk bude nedílnou součástí budoucnosti obuvnictví
Jak se bude vyvíjet 3D tisk v roce 2024T+T Technika a trh
Umělá inteligence a kyberbezbečnost
Jak CNC řezací plotr KIMLA našel uplatnění ve výrobě kabinv DFK CAB
RAVEO nově spolupracuje s Reggiana Riduttori
Společnost InnovMetric představuje PolyWorks 2024
Generace Z na pracovním trhuStreamTech.tv
Nejmenší 3D mapa na světě |
| Pátek, 30 Duben 2010 12:06 | |
 Vědci společnosti IBM vytvořili 3D mapu světa tak malou, že by se tisíckrát vešla do jednoho zrnka soli. Dosáhli toho pomocí nové, revoluční technologie, která malým křemíkovým hrotem s ostrým vrcholem – 100 000krát menším než nabroušená tužka – vytváří vzory a struktury jen 15 nanometrů velké při výrazně nižších nákladech a komplikovanosti. Tato technika šablonování otevírá nové možnosti pro vývoj nanometrických objektů v oblastech jako je elektronika, budoucí čipové technologie, medicína, přírodní vědy a optoelektronika.Vědecký tým vytvořil několik 3D a 2D vzorů, aby demonstroval jedinečné možnosti této techniky, přičemž pro každý vzor použil jiný materiál, jak je popsáno ve vědeckých časopisech Science a Advanced Materials:
Hrot podobný tomu, který se používá v mikroskopech atomárních sil (AFM), je připojen k ohybnému ramenu, jež naprogramovaně přejíždí nad povrchem substrátového materiálu s přesností jednoho nanometru – miliontiny milimetru. Za vysokého tepla a síly může nanometrický hrot odebírat substrátový materiál podle předem definovaných vzorů. Funguje tak jako nanometrický frézovací stroj s velmi vysokou přesností. Nová technika IBM dosahuje rozlišení až 15 nanometrů – a má potenciál pracovat s ještě menším rozlišením. Pomocí dosavadních metod, jako je elektronová litografie, je čím dál náročnější vyrábět modely s rozlišením pod 30 nanometrů, což je technické omezení této metody. Navíc v porovnání s drahými nástroji pro e-beam litografii, které vyžadují několik kroků zpracování a mnoho přístrojů, znamená nástroj vědců IBM – který se snadno vejde na stůl – příslib daleko větších možností při pětinových až desetinových nákladech a daleko menší komplikovanosti. Vědci popisují novou metodiku výroby 3D vzorů pro dva velmi odlišné a perspektivní druhy substrátových materiálů: polymer s názvem polyftalaldehyd a molekulární sklo podobné substrátovým materiálům používaným u běžných technik nanometrické výroby, takzvaný „rezist“. Určení těchto dvou materiálů bylo klíčovým faktorem pro vynikající výkon a spolehlivost nové techniky. Při hledání vhodných a efektivních substrátových materiálů se vědci zaměřili na organické látky, které by se daly využít jako rezist, čímž se drželi stejné koncepce, na jaké je postavena dnešní polovodičová technologie, což je důležité pro další integraci.
Mohlo by vás zajímat:
|
