Partneři Projektu CAD
Po | Út | St | Čt | Pá | So | Ne |
---|---|---|---|---|---|---|
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 |
8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 |
15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 | 21 |
22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 |
29 | 30 | 31 |
- 02.09. Autodesk Fusion 360 – pro uživatele Autodesk Inventor
- 03.09. AutoCAD a AutoCAD LT – základní kurz
- 04.09. workshop Strukturální mechanika v programu COMSOL Multiphysics
- 05.09. AutoCAD 2013 - základní kurz
- 08.09. AutoCAD Electrical – základní kurz
- 09.09. AutoCAD kurz – vytváření a prezentace 3D modelů
- 09.09. Trimble SketchUp – základní kurz
- 11.09. AutoCAD – kurz pro středně pokročilé
- 15.09. Autodesk Maya – úvod do 3D
- 15.09. Blender – pokročilé materiály a renderování
Aktuální články
- Nové pracovní desktopy Dell Pro Max
- Pozvánka na konferenci IT FORUM 2025
- Technology Days 2025 startují už 16. září
- Už je to skoro tady – představuje se Lumion Cloud
- Digitální dvojče dálnice D4 a správa silniční infrastruktury
- Pozvánka na 10. ročník konference BIM Open 2025
- Nejsilnější přenosný laser v Evropě vznikl na FEL ČVUT
- HTC představuje lehoučké AI brýle VIVE Eagle
Kompenzace náklonu maximalizuje přesnost při 2PP 3D tisku |
Středa, 24 Srpen 2022 10:43 | |
Rámeček Substrate Tilt Frame se (i zpětně) hodí k jakémukoli z řady laserových 2PP 3D tiskových systémů NanoOne od UpNano, které dokážou vytvářet struktury v rozsahu 12 řádů s nebývalou rychlostí. Další vývoj společnosti UpNano zahrnuje držák vláken, který umožňuje výrobu integrovaných optických systémů na špičce optického vlákna. Díky schopnosti tisknout struktury v nanometrovém rozlišení i v centimetrovém rozměru nemá řada NanoOne na trhu laserových 2PP 3D tiskáren obdoby. Již byla použita v elektronice i v mikrooptice a pro biokompatibilní aplikace v buněčném a lékařském výzkumu. Ať už se však jedná o jakoukoli aplikaci, u 2PP 3D tisku přece jen záleží na velikosti: čím větší je tištěná struktura, tím více sebemenší nerovnosti tiskového materiálu ovlivní přesnost výsledného produktu. Tuto známou komplikaci nyní řeší a vyřešila společnost UpNano. Výzkumné a vývojové oddělení společnosti s provozovnami v USA a Rakousku vyvinulo naklápěcí rám, který dokáže korigovat nerovnosti v rozsahu pod µm. Rám pro naklápění substrátu lze rozšířit o různé držáky, včetně řady držáků se sklíčidly pro až 6palcové destičky. Ještě důležitější je, že celý povrch waferů až do velikosti 4 palců je nyní přístupný pro 2PP 3D tisk.
Mohlo by vás zajímat:
|