Partneři Projektu CAD
| Po | Út | St | Čt | Pá | So | Ne |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 2 | |||||
| 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 |
| 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 |
| 17 | 18 | 19 | 20 | 21 | 22 | 23 |
| 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | 29 | 30 |
| 31 |
- 31.08. Autodesk Inventor – kurz pro středně pokročilé
- 02.09. AutoCAD a AutoCAD LT – základní kurz
- 02.09. Unreal Engine – vizualizace
- 03.09. workshop Strukturální mechanika v programu COMSOL Multiphysics
- 05.09. AutoCAD 2013 - základní kurz
- 07.09. Autodesk Inventor – základní kurz
- 07.09. AutoCAD Electrical – základní kurz
- 07.09. AutoCAD Electrical – základní kurz
- 10.09. AutoCAD – kurz pro středně pokročilé
- 10.09. AutoCAD kurz – vytváření a prezentace 3D modelů
Aktuální články
- Výzva k účasti v soutěži o výzkumnou cenu „Fritz Studer Award 2026“
- Nový CleveRA Car EVO má vyšší rozlišení i skenovací frekvenci
- DT – Výhybkárna a strojírna digitalizuje 70 let historie výroby výhybek
- FANUC spouští iniciativu integrovaných 5osých technologií pro zefektivnění výroby složitých dílů
- SHINING 3D uvedla bezdrátový systém EinScan Trak
- Mezi finalisty soutěže YII Awards 2026 jsou i projekty z Česka
- Materiál PLA-HF pro vysokorychlostní 3D tisk od eSUN
- Realizujeme projekty na škole s využitím 3D tisku, 15. díl
Kompenzace náklonu maximalizuje přesnost při 2PP 3D tisku |
| Středa, 24 Srpen 2022 10:43 | |
|
Rámeček Substrate Tilt Frame se (i zpětně) hodí k jakémukoli z řady laserových 2PP 3D tiskových systémů NanoOne od UpNano, které dokážou vytvářet struktury v rozsahu 12 řádů s nebývalou rychlostí. Další vývoj společnosti UpNano zahrnuje držák vláken, který umožňuje výrobu integrovaných optických systémů na špičce optického vlákna.
Díky schopnosti tisknout struktury v nanometrovém rozlišení i v centimetrovém rozměru nemá řada NanoOne na trhu laserových 2PP 3D tiskáren obdoby. Již byla použita v elektronice i v mikrooptice a pro biokompatibilní aplikace v buněčném a lékařském výzkumu. Ať už se však jedná o jakoukoli aplikaci, u 2PP 3D tisku přece jen záleží na velikosti: čím větší je tištěná struktura, tím více sebemenší nerovnosti tiskového materiálu ovlivní přesnost výsledného produktu. Tuto známou komplikaci nyní řeší a vyřešila společnost UpNano. Výzkumné a vývojové oddělení společnosti s provozovnami v USA a Rakousku vyvinulo naklápěcí rám, který dokáže korigovat nerovnosti v rozsahu pod µm. Rám pro naklápění substrátu lze rozšířit o různé držáky, včetně řady držáků se sklíčidly pro až 6palcové destičky. Ještě důležitější je, že celý povrch waferů až do velikosti 4 palců je nyní přístupný pro 2PP 3D tisk.
Mohlo by vás zajímat:
|








Nové zařízení umožňuje kompenzovat nepatrné nerovnosti 2PP (2-Photon Polymerization) 3D tiskových substrátů během tisku. Takzvaný Substrate Tilt Frame nyní uvedla na mezinárodní trh společnost UpNano (Rakousko). Rám lze vybavit držáky pro průmyslové standardní destičky o velikosti 2 až 6 palců. Tímto způsobem se nyní stal realitou 2PP 3D tisk na celé plochy waferů až do velikosti 4 palců v kvalitě, kterou nabízejí tiskárny UpNano.

