Partneři Projektu CAD
- 02.02. Autodesk Inventor – kurz pro středně pokročilé (modelování součástí a plochy)...
- 02.02. AutoCAD kurz – vytváření a prezentace 3D modelů
- 03.02. Blender – úvod do 3D
- 04.02. AutoCAD a AutoCAD LT – základní kurz
- 05.02. AutoCAD 2013 - základní kurz
- 05.02. workshop Strukturální mechanika v programu COMSOL Multiphysics
- 09.02. Autodesk Inventor – základní kurz
- 09.02. AutoCAD Electrical – základní kurz
- 10.02. Autodesk Inventor – kurz iLogic
- 10.02. Autodesk Inventor – kurz iLogic
Aktuální články
- ENCY 2.7 se 120 vylepšeními a opravami
- Epson uvádí tiskárnu SureColor G9000 s tiskem na film
- Bezplatný přístup k údajům o nástrojích od Sandviku
- PLM a BIM data v prostředí virtuální reality
- Průvodce osvědčenými postupy pro modernizaci a obnovu dopravní infrastruktury
- Inovované profesionální monitory Dell pro byznys a kreativitu
- Webinář Propojené PLM + ERP
- HOLZ-HANDWERK 2026
Kompenzace náklonu maximalizuje přesnost při 2PP 3D tisku |
| Středa, 24 Srpen 2022 10:43 | |
|
Rámeček Substrate Tilt Frame se (i zpětně) hodí k jakémukoli z řady laserových 2PP 3D tiskových systémů NanoOne od UpNano, které dokážou vytvářet struktury v rozsahu 12 řádů s nebývalou rychlostí. Další vývoj společnosti UpNano zahrnuje držák vláken, který umožňuje výrobu integrovaných optických systémů na špičce optického vlákna.
Díky schopnosti tisknout struktury v nanometrovém rozlišení i v centimetrovém rozměru nemá řada NanoOne na trhu laserových 2PP 3D tiskáren obdoby. Již byla použita v elektronice i v mikrooptice a pro biokompatibilní aplikace v buněčném a lékařském výzkumu. Ať už se však jedná o jakoukoli aplikaci, u 2PP 3D tisku přece jen záleží na velikosti: čím větší je tištěná struktura, tím více sebemenší nerovnosti tiskového materiálu ovlivní přesnost výsledného produktu. Tuto známou komplikaci nyní řeší a vyřešila společnost UpNano. Výzkumné a vývojové oddělení společnosti s provozovnami v USA a Rakousku vyvinulo naklápěcí rám, který dokáže korigovat nerovnosti v rozsahu pod µm. Rám pro naklápění substrátu lze rozšířit o různé držáky, včetně řady držáků se sklíčidly pro až 6palcové destičky. Ještě důležitější je, že celý povrch waferů až do velikosti 4 palců je nyní přístupný pro 2PP 3D tisk.
Mohlo by vás zajímat:
|








Nové zařízení umožňuje kompenzovat nepatrné nerovnosti 2PP (2-Photon Polymerization) 3D tiskových substrátů během tisku. Takzvaný Substrate Tilt Frame nyní uvedla na mezinárodní trh společnost UpNano (Rakousko). Rám lze vybavit držáky pro průmyslové standardní destičky o velikosti 2 až 6 palců. Tímto způsobem se nyní stal realitou 2PP 3D tisk na celé plochy waferů až do velikosti 4 palců v kvalitě, kterou nabízejí tiskárny UpNano.

