| Google překladač: |
|
|
Aktuální články
- Philips 328P6VUBREB – nový monitor pro profesionály
- HTC Vive bez kabelů – přichází Vive Wireless Adapter
- Epson nabízí nové velkoformátové tiskárny řady T
- Bezkonkurenční výkon nové řady pracovních stanic HP Z
- Panasonic FZ-G1 s dvojnásobnou operační pamětí a nejnovějšími procesory Intel
- Energeticky soběstačné bydlení může být komfortní
- Nikon vyvíjí novou generaci plnoformátového fotoaparátu
StreamTech.tv
Nejmenší 3D mapa na světě |
| Pátek, 30 Duben 2010 12:06 | |
 Vědci společnosti IBM vytvořili 3D mapu světa tak malou, že by se tisíckrát vešla do jednoho zrnka soli. Dosáhli toho pomocí nové, revoluční technologie, která malým křemíkovým hrotem s ostrým vrcholem – 100 000krát menším než nabroušená tužka – vytváří vzory a struktury jen 15 nanometrů velké při výrazně nižších nákladech a komplikovanosti. Tato technika šablonování otevírá nové možnosti pro vývoj nanometrických objektů v oblastech jako je elektronika, budoucí čipové technologie, medicína, přírodní vědy a optoelektronika.
Hrot podobný tomu, který se používá v mikroskopech atomárních sil (AFM), je připojen k ohybnému ramenu, jež naprogramovaně přejíždí nad povrchem substrátového materiálu s přesností jednoho nanometru – miliontiny milimetru. Za vysokého tepla a síly může nanometrický hrot odebírat substrátový materiál podle předem definovaných vzorů. Funguje tak jako nanometrický frézovací stroj s velmi vysokou přesností. Nová technika IBM dosahuje rozlišení až 15 nanometrů – a má potenciál pracovat s ještě menším rozlišením. Pomocí dosavadních metod, jako je elektronová litografie, je čím dál náročnější vyrábět modely s rozlišením pod 30 nanometrů, což je technické omezení této metody. Navíc v porovnání s drahými nástroji pro e-beam litografii, které vyžadují několik kroků zpracování a mnoho přístrojů, znamená nástroj vědců IBM – který se snadno vejde na stůl – příslib daleko větších možností při pětinových až desetinových nákladech a daleko menší komplikovanosti. Vědci popisují novou metodiku výroby 3D vzorů pro dva velmi odlišné a perspektivní druhy substrátových materiálů: polymer s názvem polyftalaldehyd a molekulární sklo podobné substrátovým materiálům používaným u běžných technik nanometrické výroby, takzvaný „rezist“. Určení těchto dvou materiálů bylo klíčovým faktorem pro vynikající výkon a spolehlivost nové techniky. Při hledání vhodných a efektivních substrátových materiálů se vědci zaměřili na organické látky, které by se daly využít jako rezist, čímž se drželi stejné koncepce, na jaké je postavena dnešní polovodičová technologie, což je důležité pro další integraci.
Mohlo by vás zajímat:
|
