Partneři Projektu CAD
Po | Út | St | Čt | Pá | So | Ne |
---|---|---|---|---|---|---|
1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | |
7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | 13 |
14 | 15 | 16 | 17 | 18 | 19 | 20 |
21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 |
28 | 29 | 30 | 31 |
- 05.07. AutoCAD 2013 - základní kurz
- 07.07. AutoCAD a AutoCAD LT – základní kurz
- 10.07. Trimble SketchUp – základní kurz
- 10.07. workshop Strukturální mechanika v programu COMSOL Multiphysics
- 14.07. AutoCAD – kurz pro středně pokročilé
- 16.07. Trimble SketchUp – workshop dynamické komponenty
- 16.07. Trimble SketchUp – workshop práce s terénem
- 21.07. AutoCAD – kurz pro pokročilé
- 23.07. Autodesk Inventor – základní kurz
- 28.07. Trimble SketchUp – základní kurz
Aktuální články
- Dassault Systèmes a Patrick Jouin představili Ta.Tamu
- FAB25 Czechia – Brno 4. až 7. července 2025
- ENCY World Conference 2025: Světové setkání ENCY komunity
- Ohlédnutí za Advanced Engineering TechDay 2025
- Import mapy technické infrastruktury z DTM ČR
- Maker tábory pro děti – kreativita, technika a zábava
- Podejte návrh na přednášku pro BIM OPEN 2025
- MapFactor Navigator 25 s aktualizovanými offline mapami a vylepšenou možností integrace
Nejmenší 3D mapa na světě |
Pátek, 30 Duben 2010 12:06 | |
![]() Vědecký tým vytvořil několik 3D a 2D vzorů, aby demonstroval jedinečné možnosti této techniky, přičemž pro každý vzor použil jiný materiál, jak je popsáno ve vědeckých časopisech Science a Advanced Materials:
Hrot podobný tomu, který se používá v mikroskopech atomárních sil (AFM), je připojen k ohybnému ramenu, jež naprogramovaně přejíždí nad povrchem substrátového materiálu s přesností jednoho nanometru – miliontiny milimetru. Za vysokého tepla a síly může nanometrický hrot odebírat substrátový materiál podle předem definovaných vzorů. Funguje tak jako nanometrický frézovací stroj s velmi vysokou přesností. Nová technika IBM dosahuje rozlišení až 15 nanometrů – a má potenciál pracovat s ještě menším rozlišením. Pomocí dosavadních metod, jako je elektronová litografie, je čím dál náročnější vyrábět modely s rozlišením pod 30 nanometrů, což je technické omezení této metody. Navíc v porovnání s drahými nástroji pro e-beam litografii, které vyžadují několik kroků zpracování a mnoho přístrojů, znamená nástroj vědců IBM – který se snadno vejde na stůl – příslib daleko větších možností při pětinových až desetinových nákladech a daleko menší komplikovanosti. Vědci popisují novou metodiku výroby 3D vzorů pro dva velmi odlišné a perspektivní druhy substrátových materiálů: polymer s názvem polyftalaldehyd a molekulární sklo podobné substrátovým materiálům používaným u běžných technik nanometrické výroby, takzvaný „rezist“. Určení těchto dvou materiálů bylo klíčovým faktorem pro vynikající výkon a spolehlivost nové techniky. Při hledání vhodných a efektivních substrátových materiálů se vědci zaměřili na organické látky, které by se daly využít jako rezist, čímž se drželi stejné koncepce, na jaké je postavena dnešní polovodičová technologie, což je důležité pro další integraci.
Mohlo by vás zajímat:
|