Partneři Projektu CAD
Po | Út | St | Čt | Pá | So | Ne |
---|---|---|---|---|---|---|
1 | 2 | 3 | 4 | |||
5 | 6 | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 |
12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 |
19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 |
26 | 27 | 28 | 29 | 30 | 31 |
- 05.05. AutoCAD a AutoCAD LT – základní kurz
- 05.05. AutoCAD 2013 - základní kurz
- 07.05. Webinář Optimalizace PCB z pohledu tepelného managementu v programu Ansys Icepak...
- 12.05. Autodesk Inventor – kurz pro středně pokročilé (modelování součástí a plochy)...
- 13.05. AutoCAD – kurz pro středně pokročilé
- 14.05. Tolerance Management Fórum
- 15.05. AutoCAD – kurz pro pokročilé
- 15.05. ATCx Simulate at the Speed of Design
- 15.05. workshop Strukturální mechanika v programu COMSOL Multiphysics
- 22.05. Metrologické školení » Měření tvrdosti kovových materiálů
Aktuální články
- Konference GIS Esri v ČR 5.–6. listopadu 2025
- Detailnější pohled na Moravu a Slezsko
- OPEN MIND uvádí hyperMILL 2025
- GEFOS zve na konferenci 3D Days 2025
- ZWSOFT vydal ZWCAD MFG 2026 Beta
- Cesta k bezpečné automatizaci: jak roboty mění stavební průmysl
- ALLPLAN 2025-1 zvyšuje efektivitu a spolupráci
- Epson představuje nové tiskárny SureColor řady P
CAD na www.SystemOnLine.cz
Nejmenší 3D mapa na světě |
Pátek, 30 Duben 2010 12:06 | |
![]() Vědecký tým vytvořil několik 3D a 2D vzorů, aby demonstroval jedinečné možnosti této techniky, přičemž pro každý vzor použil jiný materiál, jak je popsáno ve vědeckých časopisech Science a Advanced Materials:
Hrot podobný tomu, který se používá v mikroskopech atomárních sil (AFM), je připojen k ohybnému ramenu, jež naprogramovaně přejíždí nad povrchem substrátového materiálu s přesností jednoho nanometru – miliontiny milimetru. Za vysokého tepla a síly může nanometrický hrot odebírat substrátový materiál podle předem definovaných vzorů. Funguje tak jako nanometrický frézovací stroj s velmi vysokou přesností. Nová technika IBM dosahuje rozlišení až 15 nanometrů – a má potenciál pracovat s ještě menším rozlišením. Pomocí dosavadních metod, jako je elektronová litografie, je čím dál náročnější vyrábět modely s rozlišením pod 30 nanometrů, což je technické omezení této metody. Navíc v porovnání s drahými nástroji pro e-beam litografii, které vyžadují několik kroků zpracování a mnoho přístrojů, znamená nástroj vědců IBM – který se snadno vejde na stůl – příslib daleko větších možností při pětinových až desetinových nákladech a daleko menší komplikovanosti. Vědci popisují novou metodiku výroby 3D vzorů pro dva velmi odlišné a perspektivní druhy substrátových materiálů: polymer s názvem polyftalaldehyd a molekulární sklo podobné substrátovým materiálům používaným u běžných technik nanometrické výroby, takzvaný „rezist“. Určení těchto dvou materiálů bylo klíčovým faktorem pro vynikající výkon a spolehlivost nové techniky. Při hledání vhodných a efektivních substrátových materiálů se vědci zaměřili na organické látky, které by se daly využít jako rezist, čímž se drželi stejné koncepce, na jaké je postavena dnešní polovodičová technologie, což je důležité pro další integraci.
Mohlo by vás zajímat:
|